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产品概述 product overview

费勉仪器推出了mbe-1000分子束外延系统,可进行5×3'',4×4'',单片6'', 单片8''衬底外延生长。该系统可实现全自动传样和生长,非常适用于化合物半导体器件的批量生产。生长室采用双温区衬底加热,实现生长温度均匀可控。mbe-1000系统包含10个蒸发源端口和10个蒸发源挡板端口,可实现复杂结构薄膜的精确逐层生长。

mbe-1000全自动直线传样系统采用直线机械手传样,可进行10英寸衬底托盘在进样室,预处理室,生长室和出样室之间传递。
根据客户需求,费勉仪器提供不同型号的热蒸发源、裂解源、电子束蒸发源和气体源。系统可安装rheed、bfm、rga等,实现对薄膜生长的原位监控。系统还可以搭配费勉仪器的mbe束流监测光谱系统和半导体吸收边衬底真实温度监控系统,实现可重复性和批量性的完全自动化生长。费勉仪器提供mbe操作软件,包括生长工艺程序编写、自动生长控制和不间断数据记录三大功能,可以执行生长工艺程序控制挡板运动,源炉温度,衬底温度,衬底旋转速度和方向。控制软件包括温度曲线,真空压力曲线,电源输出功率曲线,各系统间传样等工艺需求功能。



技术规格 mechanical specifications


配置 mbe-1000
生长室
腔体尺寸 900mm i.d.
极限真空 <2×10-10mbar
液氮冷屏 标配
冷屏通液氮后极限真空
<5×10-11mbar
衬底加热器最高温度
1000℃
衬底加热器温度稳定性
pid控制,±0.5℃
衬底最大尺寸
8inch
衬底旋转
40rpm
蒸发源配置
cf150×7/c100×3
独立的蒸发源挡板
电机驱动
离子规
1×10-3~2×10-11mbar
烘烤温度
200℃
预处理 极限真空 <8×10-11mbar
液氮冷屏 标配
预处理加热器最高温度
450℃
离子规 1×10-3~2×10-11mbar
进样室 极限真空 <1×10-8mbar
腔体水冷夹层 选配
样品停放台 15个
红外烘烤灯 选配
全量程规
1×103~5×10-9mbar
系统控制 触摸屏操作面板
加配
生长工艺程序编写
加配
自动生长控制
加配
不间断数据记录 加配
报警保护功能 加配
联锁功能 加配
选配 出样室 选配
ccd
选配
手套箱 选配
磷回收系统
选配
衬底红外测温系统
选配
真空照明系统
选配
sms 选配
mbe束流监测光谱系统 选配











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标签: mbe系统
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